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化學(xué)拋光過程中電流影響因

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在此電位范圍內(nèi),金屬表面的凸出部位由于距離陰極較凹洼部位近,電力線集中,優(yōu)先開始溶解。溶液中離子擴(kuò)散的速度大于金屬溶解速度,促進(jìn)了金屬的溶解,因此,電流快速上升。


位由V2升至V3時(shí),電流密度開始下降,說明陽極表面溶解速度減慢。這是由于金屬通過前期溶解而變成水化離子進(jìn)入溶后,逐漸沉積在陽極表面附近,金屬水化離子濃度刁不斷提高。這些金屬離子向溶液深處擴(kuò)專散的速度比余金屬離子從晶晶格進(jìn)入陽栘極表面附近溶液的速度慢,使陽極表面附近的金雇屬離子濃度增加,形成陽圾的濃差極化。隨之金屬的溶解速度麥慢,陽極表面的電阻增大,電壓升高而電流密度減小。另外,陽極表面開始有氧化物生成,特別是有低價(jià)的過渡氧化物生成。


極電位由V3廠3升至V4,陽極電流密度從理論上略有升高,但基本上處于平穩(wěn),屬于電流穩(wěn)定區(qū)。在本區(qū)間內(nèi),陽極表面的氧化物已基本覆蓋陽極的表面,但金屬的溶解仍然繼續(xù),它的溶解基金屬溶解的同時(shí)也不斷有氧化物七F我和氧化物物的溶解,因此維持著電流密度的穩(wěn)。顯然,在這里金屬氧化物的解速度決定了金屬的溶解速,。在此區(qū)域內(nèi)金屬的不斷溶角解即是進(jìn)行著電化學(xué)拋光。由于前面已進(jìn)行了活性溶解,陽極表面已變得較為平整,凹、凸部位的幾何尺寸相差已不大,所以拋光速度較慢,逐漸變得有光澤,屬于良好的拋光區(qū)。實(shí)踐中已證明在此區(qū)間內(nèi),氧氣雖有少量生成,但由于逸出氣壓不夠,不能脫離電極表面,結(jié)果形成氣泡附著在金屬表面,并使陽極表面絕緣,電流不能正常通過,金屬離子不能繼續(xù)溶解電化學(xué)拋光的正常進(jìn)行,且加工面上有氣泡存留時(shí)的斑點(diǎn),表面粗糙度較差。


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